Foto: Website des US-Heimatschutzministeriums Die Vereinigten Staaten haben neue Visabestimmungen angekündigt, die die Aufenthaltsdauer ausländischer Studenten und anderer Teilnehmer an Austauschprogrammen auf Arbeits- und Studienbasis auf vier Jahre begrenzen würden. Diese Änderung dürfte mehr als 13.000 Südkoreaner betreffen, die sich derzeit in den USA aufhalten und unter diese Kategorien fallen. In einer Pressemitteilung vom Donnerstag sagte das US-Heimatschutzministerium (DHS), dass die neuen Regeln voraussichtlich die Lücke schließen, die es ausländischen Studenten und Austauschbesuchern ermöglichte, „Visamissbrauch“ zu begehen, indem sie auf unbestimmte Zeit in den USA blieben. F-1-Studenten und J-1-Visuminhaber werden zusammen mit ihren Familien für die Dauer ihres Programms zugelassen, die nicht mehr als vier Jahre beträgt. Wer mehr Zeit benötigt, muss eine Aufenthaltsverlängerung beantragen und sich einem strengen Überprüfungsverfahren unterziehen. Bisher wurden solche Visuminhaber für einen unbestimmten Zeitraum in die USA eingelassen, was es einigen ermöglichte, sich auf unbestimmte Zeit für Kurse einzuschreiben, um einer Ausreise zu entgehen. Derzeitige Visuminhaber im Rahmen des vorherigen Rahmens werden automatisch auf das neue System umgestellt, wobei die maximale Vierjahresfrist beginnt, wenn die neuen Regeln 60 Tage nach ihrer Veröffentlichung im Bundesregister voraussichtlich am Freitag in Kraft treten. Ein erster Aufenthalt für ausländisches Medienpersonal mit I-Visa wird ebenfalls auf 240 Tage begrenzt, so dass sie jedes Mal, wenn sie ihren Aufenthalt verlängern möchten, eine Verlängerung um 240 Tage beantragen müssen. Nach Angaben der südkoreanischen Botschaft in Washington lebten im Jahr 2025 11.000.861 Südkoreaner mit F-1-Studentenvisa in den USA, zusammen mit 1.000.347 Familienmitgliedern, die sie mit F-2-Visa begleiteten. Es gab 349 Südkoreaner mit I-Visa und Austauschbesucher, die mit J-1-Visa mit der Nummer siebentausend-985 in die USA einreisten, mit dreitausend-180 Familienmitgliedern.